文献类型：期刊文章

作　　者：孟超[1] 王文文[1] 顾宝霞[1] 曹晔[1] 刁训刚[1] 康明生[2]

机构地区：[1]北京航空航天大学凝聚态物理与材料物理研究中心,北京100191 [2]石家庄同人伟业科技有限公司,河北石家庄050035

出　　处：《稀有金属》

基　　金：国家863计划资助项目(2008AA05Z415);国家自然科学基金(50772008;50902006)资助项目

年　　份：2009

卷　　号：33

期　　号：6

起止页码：855-859

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用直流磁控溅射法,在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶A l(ZAO)薄膜。比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度,研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响。结果表明,室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向,随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高,载流子浓度和迁移率增大,电阻率下降,薄膜在紫外光区的吸收边发生红移,在可见光区的平均透过率降低,在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小。厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能,其电阻率为7.315×10-4Ω.cm,方块电阻为6.1Ω/□,可见光区平均透过率达到82%,波长为550 nm处的透过率为87%。

关 键 词：直流磁控溅射 ZnO∶Al薄膜  透明导电薄膜 光电特性

分 类 号：O484.4]