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CVD金刚石薄膜表面的缺陷研究 ( EI收录)
Study on Defects in the Surface of CVD Diamond Films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]湖南大学材料测试研究中心 [2]湖南大学应用物理系
基 金：湖南省计委和科委资助
年 份：1998
卷 号：27
期 号：2
起止页码：126-131
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：用ＳＥＭ方法观察分析了ＣＶＤ金刚石薄膜表面的缺陷形貌和结构，直观的两种缺陷为孪晶和孔洞。孪晶反映了晶粒的不完整性，它的产生取决于气相中活性分子的浓度与生长表面活性位数目的比值，孪晶比率随碳源浓度升高和衬底温度的降低而增大；孔洞反映了膜的不致密性，其产生与膜生长速率和衬底表面初始成核密度切相关，孔洞密度随碳源浓度升高和衬底温度的升高而增大。
关 键 词：金刚石薄膜 缺陷 孪晶 表面形貌 CVD
分 类 号：O613.71] O484[化学类]
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