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期刊文章详细信息

CMOS工艺制备聚酰亚胺电容型湿度传感器及其性能    

Property of polyimide capacitive type humidity sensor prepared by CMOS process

  

文献类型:期刊文章

作  者:崔千红[1] 杨子健[1] 韦波[1] 杨建红[1]

机构地区:[1]兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所,甘肃兰州730000

出  处:《电子元件与材料》

年  份:2009

卷  号:28

期  号:12

起止页码:19-22

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:以正胶光刻和干湿刻蚀方法,结合CMOS工艺制备了聚酰亚胺电容型湿度传感器。研究了硅基、钼–铝栅条状电极湿度传感器的结构及亚胺化温度对其性能的影响。结果表明:相对湿度(RH)为20%~80%发生准静态变化时,该传感器的湿度–电容曲线具有较好的线性度;外界相对湿度在12%和92%间发生阶跃变化时,响应时间约为40s。

关 键 词:湿度传感器 电容型 聚酰亚胺 CMOS工艺

分 类 号:TP212]

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