文献类型：期刊文章

作　　者：丁艳华[1] 李海燕[1] 杨俊[1] 曾庆福[1]

机构地区：[1]武汉科技学院纺织印染清洁生产教育部工程研究中心,湖北武汉430073

出　　处：《环境科学与技术》

基　　金：国家"十一五"科技支撑计划项目(2006BAC02A00);湖北省自然科学基金项目资助(2007ABA129)

年　　份：2009

卷　　号：32

期　　号：12

起止页码：31-34

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAB、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、JST、PROQUEST、RCCSE、UPD、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：基于紫外辐照/硼氢化钾/亚硫酸氢钠(UV/KBH4/NaHSO)3体系下对活性艳红X-3B进行还原脱色反应,重点探讨了该体系下还原降解活性艳红X-3B的反应机理,考察了硼氢化钾和亚硫酸氢钠的摩尔比(B/S)、辐射光强对其反应机理的影响。结果发现,UV/KBH4/NaHSO3处理染液具有明显协同作用,初步推测光助硼氢化钾和亚硫酸氢钠还原活性艳红X-3B的脱色反应是SO2-参与的自由基反应;脱色反应的B/S最佳摩尔比为1:30;增加辐射光的强度对染液的还原脱色反应过程具有明显的促进作用。

关 键 词：还原  紫外辐照 脱色 机理  活性艳红X-3B

分 类 号：X131.2]