期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]峨嵋半导体材料厂,所,峨眉山市614200
年 份:1998
期 号:3
起止页码:14-15
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:传统现点认为:将三氯氢硅和四氯化硅按一定比例混合进入还原炉进行多晶硅还原生产,可降低消耗,提高效益.本文通过实验研究,得出在现有工艺条件下,将四氯化硅加入三氯氢硅同时进入还原炉进行多晶硅生产,并不能起到预期的效果.经改进后的工艺在实际生产应用中,取得了较好成果.
关 键 词:混合比 三氯氢硅 氢还原 四氯化硅 多晶硅
分 类 号:TN304.12]
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