文献类型：期刊文章

作　　者：黄文章[1] 童耀斌[2] 罗红群[2] 李念兵[2] 李丹[1]

机构地区：[1]重庆科技学院化学化工学院,重庆401331 [2]西南大学化学化工学院,重庆400715

出　　处：《中国有色金属学报》

基　　金：重庆市自然科学基金资助项目(CSTC-2004BA4024)

年　　份：2009

卷　　号：19

期　　号：9

起止页码：1695-1699

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用分子自组装技术,在铜电极表面形成一层1,3-二巯基硫醇(BDT)单分子自组装膜。通过交流阻抗、极化曲线和循环伏安等电化学方法探讨该自组装膜在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用。实验表明:BDT能够有效地组装到铜的表面形成单分子自组装膜,BDT自组装膜能有效地抑制铜基底在3%NaCl腐蚀介质以及酸性NaCl溶液中的腐蚀行为;缓蚀效率随组装时间的延长逐渐升高并趋于稳定,在pH值较低的溶液中仍具有较好的缓蚀效果;当BDT浓度为1.0×10-2mol/L、组装时间为40h时,铜电极的腐蚀电流最小,缓蚀效率最好。

关 键 词：1  3-二巯基硫醇  自组装膜 铜电极 缓蚀

分 类 号：TG174.42]