文献类型：期刊文章

作　　者：陈荣发[1] 陈曙光[2] 沈茂松[1] 沈兆侠[1] 戴良刚[1] 秦康生[1]

机构地区：[1]扬州大学机械工程学院,江苏扬州225009 [2]江苏金方圆数控机床有限公司,江苏扬州225009

出　　处：《扬州大学学报（自然科学版）》

基　　金：教育部博士点专项基金资助项目(20060287019);江苏省精密与微细制造技术重点实验室开放基金资助项目(JSPM200705);江苏省高等学校大学生实践创新训练计划资助项目;扬州大学科技创新培育基金资助项目(200809)

年　　份：2009

卷　　号：12

期　　号：3

起止页码：30-33

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、BIOSISPREVIEWS、CAB、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、MR、RCCSE、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：通过等离子体喷射CVD(chemical vapor deposition)方法生长了光学级金刚石厚膜,运用电火花和机械抛光技术对厚膜进行了双面抛光,并研究抛光表面缺陷对厚膜红外透射率的影响.结果表明:表面的台阶、孔洞、裂纹和沟槽等缺陷均会引起入射红外光波的散射和吸收,从而导致金刚石厚膜透射率的下降.表面的台阶、孔洞、裂纹和沟槽等缺陷厚膜的平均红外透射率分别为46.53%,62.56%,50.11%,58.26%.

关 键 词：CVD金刚石膜 表面缺陷  红外透射率  

分 类 号：TG174.442]