文献类型：期刊文章

作　　者：吴金东[1,2] 吴兴坤[1] 卢卫民[2] 吴海港[2] 张立永[2] 黄晓鹏[2]

机构地区：[1]浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州310027 [2]浙江富通光纤技术有限公司,浙江富阳311422

出　　处：《光学学报》

年　　份：2009

卷　　号：29

期　　号：10

起止页码：2692-2697

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20094712478949)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了一种新颖的非零色散位移光纤结构设计方法及其MCVD+OVD制造工艺,所制备的光纤有效面积达到71μm2以上。采用关键结构区域精确微扰方法,改进了光纤的色散特性,1550nm处色散斜率由0.0715ps/(nm2.km),分别减小至0.0605ps/(nm2.km),0.0466ps/(nm2.km),零色散波长由1500nm附近移至1450nm以下。测量表明,所得光纤具有优越的光学传输特性、抗弯曲性能和熔接性能,适用于C+L和S+C+L工作波长的大容量高速率长距离密集波分复用系统。光纤关键结构区域精确微扰是改进光纤性能的一种有效方法,该方法不限于MCVD工艺和非零色散位移光纤,对新型光纤的设计和生产具有积极的指导意义。

关 键 词：光纤光学 非零色散位移光纤 结构区域微扰  色散斜率 大有效面积

分 类 号：TN253]