文献类型：期刊文章

作　　者：顾锦华[1] 钟志有[2] 何翔[2] 孙奉娄[2]

机构地区：[1]中南民族大学计算与实验中心,武汉430074 [2]中南民族大学电子信息工程学院,武汉430074

出　　处：《中南民族大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家民委科研基金资助项目(05ZN03);中南民族大学自然科学基金资助项目(YZZ07004)

年　　份：2009

卷　　号：28

期　　号：3

起止页码：30-33

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、CSA-PROQEUST、IC、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：采用掺锡氧化铟玻璃作为衬底,制备了聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1-4-苯撑乙烯]光敏薄膜及其器件,研究了退火处理对薄膜形貌和光电性能的影响.透射光谱和AFM研究表明,退火处理改善了薄膜的表面形貌、降低了薄膜的光学能隙.另外,通过分析器件伏安特性发现,退火处理有助于提高薄膜的电导率和载流子迁移率.这些实验结果对于提高聚合物太阳电池的能量转换效率、改善器件的光伏性能具有非常重要的意义.

关 键 词：聚合物太阳电池  光敏薄膜  退火处理

分 类 号：TM914]