文献类型：期刊文章

作　　者：程立军[1,2] 宋庆功[3]

机构地区：[1]承德技师学院数控工程技术系,河北承德067000 [2]河北工业大学理学院,天津300130 [3]中国民航大学理学院,天津300300

出　　处：《材料保护》

基　　金：民航总局教育研究基金(03-3-07)资助

年　　份：2009

卷　　号：42

期　　号：9

起止页码：16-18

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用反应磁控共溅射的方法,通过改变Cr靶溅射功率,在不锈钢基体上沉积不同Cr含量TiAlCrN薄膜。采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌;采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为。结果表明:沉积的TiAlCrN薄膜表面平整、光滑、致密,无孔洞和突起等缺陷,晶粒细小,粗糙度低;TiAlCrN薄膜的抗腐蚀性好于不锈钢和TiAlN薄膜,且随Cr含量增加而增强。Cr含量为25.5%(原子分数)试样成膜质量最好,其抗腐蚀性约为不锈钢的15.0倍,约为TiAlN薄膜的7.7倍。

关 键 词：反应磁控共溅射  TiAlCrN薄膜  原子力显微镜 抗腐蚀性 CR含量

分 类 号：TG174.444]