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期刊文章详细信息

基于WO_3和NiO_x的单基片全无机智能窗器件的快速制备及其性能的研究  ( EI收录)  

Fast fabrication of single-substrate inorganic all-solid state smart window device based on WO_3 and NiOx and sdudy on its performance

  

文献类型:期刊文章

作  者:王怀义[1,2] 刁训刚[1] 王武育[3] 郝维昌[1] 王聪[1] 王天民[1]

机构地区:[1]北京航空航天大学理学院凝聚态与材料物理研究中心,北京100083 [2]北京印刷学院基础部,北京102600 [3]北京有色金属研究总院,北京100088

出  处:《功能材料》

基  金:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2007CB936300)

年  份:2009

卷  号:40

期  号:8

起止页码:1292-1296

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:介绍了利用磁控溅射和一种液氮冷却装置,制备非晶态WO3薄膜、非晶态LiNbO3薄膜和纳米微晶态NiOx薄膜的有效方法。进而,使用这种液氮冷却装置,采用全程基片冷却方法,制备了单基片无机全固态智能窗——G|ITO|NiOx|LiNbO3|WO3|ITO器件。实验结果表明,在400800nm的可见光范围内,该器件经过1000次循环后,它的漂白态透射率为63.0%,而着色态透射率为10.6%,这一初步工作表明,基片冷却方法应该是制备有优异性能的无机全固态电致变色智能窗的有效方法。

关 键 词:磁控溅射 无机全固态  电致变色 智能窗

分 类 号:O484.1]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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