文献类型：期刊文章

作　　者：杨和梅[1] 姚正军[2] 闫凯[2] 陈丹丹[2]

机构地区：[1]南京农业大学工学院机械系,南京210031 [2]南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京210016

出　　处：《有色金属》

基　　金：江苏省自然科学基金资助项目(BK2005128)

年　　份：2009

卷　　号：61

期　　号：3

起止页码：33-36

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、核心刊

摘　　要：以纯铝为靶材,在不同氩氧比例下,采用直流反应磁控溅射方法制备Al2O3薄膜。利用X射线衍射(XRD)、能谱(EDS)、扫描电镜(SEM)和精密阻抗分析等方法检测薄膜的组织结构、化学成分和介电性能。结果表明,在250℃的低温条件下,不同氩氧比例的Al2O3薄膜都为非晶结构。随着氧分量的增加,Al2O3薄膜的表面由平滑致密变得粗糙,化学计量失配度增大。在氧分量较小的气氛下,Al2O3薄膜均匀致密,化学计量失配度较小,Al/O原子比接近2/3。随着氩氧比的增大,Al2O3薄膜的介电常数减小和介电损耗增大,当氩氧比为3∶1时,Al2O3薄膜的介电常数较大(ε=7.9～10.3),介电损耗较小(tanδ<0.2),薄膜的介电性能相对较好。

关 键 词：无机非金属材料 AL2O3薄膜 直流反应磁控溅射 氩氧比  介电性能

分 类 号：O484.4] TB383[物理学类]