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改良西门子法多晶硅还原新技术研究进展
Research Progress for New Technology of Polysilicon Deoxidization Based on Improved Siemens Method
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]峨嵋半导体材料厂、所,峨眉山市614200
年 份：2009
期 号：2
起止页码：1-4
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：在日益激烈的国际竞争环境下,传统改良西门子法多晶厂商发展成本更低的替代技术势在必行。本文简单介绍了国外公司的三氯氢硅流化床技术和气液沉积法技术;其中三氯氢硅流化床技术能充分利用现有改良西门子法的全部产品流程,对改良西门子法多晶厂商更具参考意义。
关 键 词：三氯氢硅 粒状多晶硅 还原 流化床 气液沉积
分 类 号：TN304.12]
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