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期刊文章详细信息

脉冲激光沉积法制备ZrW_2O_8薄膜(英文)  ( EI收录)  

GROWTH OF ZrW_2O_8 THIN FILMS BY PULSED LASER DEPOSITION

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘红飞[1] 程晓农[1] 张志萍[1,2]

机构地区:[1]江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江212013 [2]江海学院,江苏扬州215101

出  处:《硅酸盐学报》

基  金:国家自然科学基金(50372027);江苏省高校自然科学重大基础研究(06KJA43010);江苏大学博士创新基金(CX07B-15x)资助项目

年  份:2009

卷  号:37

期  号:5

起止页码:755-759

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20092312112840)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用纯ZrW2O8陶瓷靶材,以脉冲激光沉积法在石英基片上沉积并退火处理后制备了ZrW2O8薄膜。利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪和扫描电子显微镜观察和确定了薄膜结构、化学组分和表面形貌,用划痕仪、表面粗糙轮廓仪测量了薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度。结果表明:脉冲激光沉积的薄膜为非晶态,膜层物质各元素之间的化学计量比与靶材成分一致;衬底未加热沉积的薄膜表面粗糙度较大,衬底温度为650℃时,薄膜表面平滑致密,粗糙度明显降低;非晶膜在1200℃密闭退火热处理3min后淬火得到立方相ZrW2O8薄膜,退火后的薄膜晶粒较大,同时还出现一些沿晶界和晶内的裂纹缺陷,随着退火温度升高,薄膜与基片的结合力降低。

关 键 词:钨酸锆 薄膜  脉冲激光沉积

分 类 号:O484.5] TB43[物理学类]

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同被引文献:

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