期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]北京工业大学嵌入式系统重点实验室,北京100022
年 份:2009
卷 号:22
期 号:7
起止页码:30-33
语 种:中文
收录情况:CSA、CSA-PROQEUST、IC、INSPEC、RCCSE、普通刊
摘 要:当芯片设计进入深亚微米,片上工艺偏差(OCV)造成的时序不确定性,成为超大规模集成电路时序收敛中的关键问题,单纯使用传统时序分析方法,已不能完全达到时序收敛的要求。文中首先介绍了静态时序分析方法,阐述了深亚微米下OCV分析对时序收敛的重要性,并提出对OCV问题建模和分析的方法。最后通过一个具体的设计实例,运用基于OCV的时序分析方法达到时序收敛。
关 键 词:深亚微米 片上工艺偏差 时序收敛 建模
分 类 号:TN47]
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