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Mg掺杂AlInP限制层窗口结构高功率(3.7W)660nm AlGaInP宽面半导体激光器 ( EI收录)
Mg Doped p-Cladding AlInP Layer with Window-strucure High Power 660 nm(3.7 W) AlGaInP Broad Area Laser Diodes
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100 [2]山东大学信息科学与工程学院,济南250100 [3]山东华光光电子有限公司,济南250101
年 份:2009
卷 号:38
期 号:3
起止页码:597-601
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:本文采用低压金属有机化学气相沉积系统(LP-MOCVD)生长出Mg掺杂压应变分别限制多量子阱结构的AlGaInP/GaInP 660 nm LD外延材料,制作出腔长1000μm、条宽150μm的宽面半导体激光器。采用选择性Zn扩散在管芯两端面区制作出透明窗口结构来提高器件的腔面光灾变阈值(COD)。透明窗口结构激光器最大连续输出功率为3.7 W,是正常结构的激光器COD饱和功率的4.4倍。激光器的特征温度T0为68 K,热阻为4.6 K/W。在热沉温度为20℃时进行了500 mW恒功率老化,老化时间为1000 h。
关 键 词:窗口结构 ZN扩散 热阻 ALGAINP 半导体激光器
分 类 号:TN365]
参考文献:
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