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超声喷雾法制备SnO_2:F薄膜及其性能研究
SnO 2∶F Films Prepared by Ultrasonic Spray Deposition Method and Their Properties
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]西安理工大学理学院应用物理系自动化与信息工程学院
年 份：1998
卷 号：14
期 号：1
起止页码：56-60
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、INSPEC、JST、ZGKJHX、普通刊
摘 要：用超声喷雾热解淀积技术制备了ＳｎＯ２Ｆ透明导电薄膜，其电阻率达４×１０－４Ωｃｍ，可见光透过率达９１％。研究了衬底温度、Ｆ／Ｓｎ比例对ＳｎＯ２Ｆ薄膜光电特性的影响。ＸＲＤ分析及ＳＥＭ观察表明，ＳｎＯ２Ｆ薄膜为多晶结构，平均粒径约５０ｎｍ。对超声雾化及淀积原理进行了分析，由于溶液的超声雾化微粒均匀性好，载气流量与溶液雾化微粒线度无关，使得超声雾化热解淀积工艺控制相对容易，热解反应类型大多为化学气相淀积，所制备薄膜的均匀性和重复性良好。
关 键 词：薄膜 超声雾化 热解淀积 二氧化锡 氟
分 类 号：O484.1]
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