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期刊文章详细信息

阳极氧化法制备Ta_2O_5绝缘膜及性能研究  ( EI收录)  

Fabrication and characterization of Ta_2O_5 dielectric films by anodic oxidation

  

文献类型:期刊文章

作  者:张永爱[1] 许华安[1] 郭太良[1]

机构地区:[1]福州大学物理与信息工程学院光电显示技术研究所,福建福州350002

出  处:《功能材料》

基  金:国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2008AA03A313);福建省科技厅资助省属高校资助项目(2008F5001);福州大学科技发展基金资助项目(2008-XY-111)

年  份:2009

卷  号:40

期  号:6

起止页码:977-980

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20093012213993)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用阳极氧化法在纯Ta表面制备绝缘性优良的Ta2O5介质膜,分析阳极氧化制备Ta2O5膜的基本机理,讨论不同电解液、阳极氧化电压及热处理等工艺参数对Ta2O5膜性能的影响。利用XRD、EDS和AFM分析薄膜的组织结构和表面形貌,超高阻微电流测试仪测试Ta2O5绝缘膜漏电流特性和耐击穿电压,结果表明,磷酸电解液中添加适当乙二醇溶液能有效地防止"晶化",阳极氧化电压在125~150V范围内制备Ta2O5绝缘膜耐击穿电压能力强,经350℃/60min大气气氛下热处理Ta2O5薄膜,内部结构致密,能有效提高Ta2O5绝缘膜耐击穿电压。

关 键 词:阳极氧化 TA2O5 绝缘膜 击穿电压

分 类 号:TQ153.6]

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同被引文献:

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