期刊文章详细信息
脉冲激光沉积工艺
Pulsed Laser Deposition
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]安阳电子管厂
年 份：1998
卷 号：11
期 号：3
起止页码：43-46
语 种：中文
收录情况：ZGKJHX、普通刊
摘 要：脉冲激光沉积是一种新型沉积工艺，跟其它沉积工艺相比它具有许多的优点，这是因为在沉积过程中其靶材料的相对原子浓度可保持不变，从而可制备出理想配比的沉积薄膜。本文介绍了采用这种脉冲激光沉积工艺制备而成的新型ＺｎＯ：Ｇａ透明导电薄膜，以及Ｚｎ－Ｇａ２Ｏ４和Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｔｂ荧光薄膜。
关 键 词：脉冲激光沉积 平板显示器 薄膜沉积工艺
分 类 号：TN141.05]
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