期刊文章详细信息
用于LCD的氧化铝阻挡层的射频反应溅射沉积及其特性
Preparation and Properties of Al_2O_3 Barrier Layers for LCD by RF Reactive Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]东南大学薄膜研究所,南京210096
年 份：1998
卷 号：18
期 号：2
起止页码：134-137
语 种：中文
收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：用金属铝靶射频反应溅射制备了Al2O3薄膜，用作LCD基片玻璃的钠离子阻挡层。报道了射频溅射参数对薄膜沉积速率和折射率的影响。测试结果表明，所沉积的Al2O3薄膜满足LCD器件阻挡层的要求。
关 键 词：射频溅射 反应溅射 LCD 阻挡层 液晶显示器件
分 类 号：TN141.9]
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