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期刊文章详细信息

外电场作用下二氧化硅分子的光激发特性研究  ( EI收录 SCI收录)  

Effect of external electric field on the optical excitation of silicon dioxide

  

文献类型:期刊文章

作  者:徐国亮[1] 吕文静[1] 刘玉芳[1] 朱遵略[1] 张现周[1] 孙金锋[1]

机构地区:[1]河南师范大学物理与信息工程学院,新乡453007

出  处:《物理学报》

基  金:河南省教育厅基础研究项目(批准号:2008A140006);国家自然科学基金(批准号:10774039);河南省自然科学基金(批准号:072300410130)资助的课题~~

年  份:2009

卷  号:58

期  号:5

起止页码:3058-3063

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000266384200030)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000266384200030)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:采用密度泛函B3P86和组态相互作用方法在6-311G**基组水平上计算了二氧化硅分子从基态到前5个激发态的跃迁波长、振子强度、自发辐射系数An0和吸收系数B0n(n=1—5).研究了外电场对二氧化硅分子激发态的影响规律.结果表明,随外电场强度增大,最高占据轨道与最低空轨道能隙变小,占据轨道的电子易于激发至空轨道.因而在外场作用下分子易于激发.

关 键 词:SIO2 激发态 外电场

分 类 号:O561.4]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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