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期刊文章详细信息

Zn掺杂TiO_2薄膜紫外探测器及其光电性能研究    

Photocurrent characteristics of ultraviolet photoconductive detectors with Zn doped TiO_2 thin film

  

文献类型:期刊文章

作  者:江伟[1,2] 王怡[1] 邢光建[1] 武光明[1] 李东临[1]

机构地区:[1]北京石油化工学院数理系,北京102617 [2]北京化工大学材料科学与工程系,北京100029

出  处:《真空》

年  份:2009

卷  号:46

期  号:3

起止页码:38-41

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用射频磁控溅射的方法制备Zn掺杂TiO2薄膜,用XRD、SEM和UV-Vis分别表征TiO2薄膜的晶体结构、表面形貌及其紫外-可见光吸收谱。并用此材料制备Au/TiO2/Au结构MSM光电导型薄膜紫外光探测器,研究其光电特性。实验结果表明,Zn掺杂TiO2紫外探测器在250nm、5V偏压紫外光照下光电流约为500μA,其响应度为100A/W,平均暗电流约为0.5μA;由于ZnO/TiO2复合薄膜之间的费米能级不同而形成的内建电场作用,减少了产生的光生电子与空穴的复合,得到较强的光电流。且其光响应的上升迟豫时间约为22s,下降响应时间约为80s;响应时间较长是由于广泛分布于薄膜中的缺陷而造成的。结果表明Zn掺杂TiO2可作为一种良好的紫外探测材料。

关 键 词:射频磁控溅射 Zn掺杂TiO2薄膜  MSM紫外探测器 光响应

分 类 号:TN36]

参考文献:

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同被引文献:

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