文献类型：期刊文章

作　　者：郭清萍[1] 武正簧[1] 赵君芙[1] 武正榜[1] 李文漪[1]

机构地区：[1]太原理工大学材料工程学院材料系

出　　处：《太原理工大学学报》

基　　金：山西省留学归国人员基金

年　　份：1998

卷　　号：29

期　　号：3

起止页码：240-243

语　　种：中文

收录情况：CAS、JST、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：以四异丙醇钛（简称ＴＰＴ）为钛源物质，采用常压化学气相沉积（ＣＶＤ）法制备了ＴｉＯ２膜，并对其光学性质进行了研究。实验结果表明：沉积条件是影响ＴｉＯ２膜的沉积率和光学性质的重要因素。在可见光和近红外区，ＴｉＯ２薄膜的透射率在６８％～８５％之间，折光率ｎ＝１．７５～２．２，消光系数ｋ＝２×１０－３～９×１０－３，带隙能Ｅｇ＝０．５～１．８７ｅＶ，制得的ＴｉＯ２膜均匀细密，膜厚为２００ｎｍ～４５０ｎｍ。用ｘ－ｒａｙ扫描仪测得４００℃～７００℃时，ＴｉＯ２膜为锐钛矿结构，４００℃以下为无定形结构。

关 键 词：化学气相沉积 二氧化钛薄膜 光学性质

分 类 号：O484.1] O484.41[物理学类]