期刊文章详细信息
反应离化团束沉积技术及其在薄膜制备中的应用
Reactive Ionized Cluster Beam Deposition and Its Application in the Films Growth
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]武汉大学理学院
年 份：1998
卷 号：23
期 号：2
起止页码：43-48
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：反应离化团束沉积技术是在离化团束沉积技术基础上加入了反应材料。本文讨论了簇团的产生、离化、加速，成膜的机制，及其在薄膜制备中的应用。
关 键 词：R-ICBD 离化团束沉积 薄膜 制备
分 类 号：O484]
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