期刊文章详细信息
电子束法沉积 ITO 透明导电膜的研究
A Study on Transparent & Electrically Conducting Film (ITO) Deposited by Electron Beam
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]华中理工大学电子科学与技术工程系 [2]山东大学光电材料与器件研究所
年 份：1998
卷 号：26
期 号：3
起止页码：10-12
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CSCD、CSCD2011_2012、核心刊
摘 要：论述了ＩＴＯ膜的导电机理及生长机理，讨论了电子束加热真空蒸镀ＩＴＯ膜的方法中，膜的组分、氧分压、衬底温度和蒸发速率等几个参数对ＩＴＯ膜光电性能的影响．在选择合适的工艺条件下制备ＩＴＯ膜，电阻率约４×１０－４Ω·ｃｍ，可见光范围内平均透过率高于９０％．
关 键 词：ITO 薄膜 氧空位 蒸汽分压 电子束沉积 导电膜
分 类 号：O484.41]
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