文献类型：期刊文章

作　　者：周国辉[1] 周富信[2] 赵雪丹[3] 张文清[3] 陈难先[3] 万发荣[1] 褚武扬[1]

机构地区：[1]北京科技大学材料物理系,北京100083 [2]中国科学院力学研究所,北京100080 [3]北京科技大学应用物理研究所,北京100083

出　　处：《中国科学（E辑）》

基　　金：国家自然科学基金资助项目 !(批准号 :19392 30 0 6 )

年　　份：1998

卷　　号：28

期　　号：1

起止页码：1-5

语　　种：中文

收录情况：CSCD、CSCD2011_2012、JST、普通刊

摘　　要：利用第一原理和陈氏三维晶格反演公式获得了Al和H的互作用对势 .分子动力学计算表明 ,当Al晶体中含H时 ,裂尖发射位错的临界应力强度因子从0 .1 1MPam降低为 0 .0 75MPam(CH=0 .72 % )和 0 .0 6MPam(CH=1 .44% ) ,即氢促进了位错的发射 .计算表明 ,氢在裂尖富集后能形成许多小气团 。

关 键 词：氢 位错发射 分子动力学 计算机模拟 金属

分 类 号：TG111] TB301]