文献类型：期刊文章

作　　者：龚勇清[1] 刘智怀[1] 高益庆[1] 罗宁宁[1] 李平贵[1]

机构地区：[1]南昌航空大学自动化学院,江西南昌330063

出　　处：《应用光学》

基　　金：江西省自然科学基金资助项目(CA200408071)

年　　份：2009

卷　　号：30

期　　号：2

起止页码：304-308

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：提出一种二元光学元件微型芯模的工艺设计方法,该方法利用了数字调制器件(DMD芯片)的空间光调制特性。首先通过编程设计出二元光学器件的相关软件,以实现菲涅耳透镜、达曼光栅、龙基光栅等各种矢量图形,经过14倍精缩光学系统,将由DMD芯片生成的二元光学器件图像成像在涂有光刻胶的基板上。经显影、定影和坚膜后,再利用电化学蚀刻,得到一种二元光学阵列的微芯模。这种二元光学的芯模制作方法可以方便、高效、低成本地用于制作微光学器件。

关 键 词：光刻技术 数字掩膜  二元光学元件 蚀刻

分 类 号：TN256]