期刊文章详细信息
BTA和PTD对铜的缓蚀作用的光电响应研究
A STUDY OF PHOTORESPONSE FOR COPPER CORROSION INHIBITION BY BTA AND PTD
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]上海电力学院电化学研究室,上海200090 [2]华东理工大学精细化工系,上海200237
基 金：国家自然科学基金资助项目;上海市高校青年科学基金项目
年 份：1998
卷 号：18
期 号：1
起止页码：57-61
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：用光电化学方法研究了铜电极在含缓蚀剂BTA和PTD的硼砂和硼砂-硼酸缓冲溶液中的光电化学行为,研究了不同浓度缓蚀剂对铜电极表面Cu_2O完全还原为Cu的电位φ_v的影响。试验结果表明φ_v表征了缓蚀剂所形成的膜与Cu_2O层之间的结合力,缓蚀作用越强则φ_v越负。
关 键 词：钢电极 缓蚀作用 光电响应 BTA PTD
分 类 号：TG174.42]
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