文献类型：期刊文章

作　　者：王玉[1] 郭金彪[1] 俞宏英[1] 孙冬柏[1,2] 李辉勤[1]

机构地区：[1]北京科技大学腐蚀与防护中心,北京100083 [2]北京表面纳米技术工程研究中心,北京100083

出　　处：《材料热处理学报》

基　　金：北京市教委科技发展计划重点项目(KZ200410028012)

年　　份：2009

卷　　号：30

期　　号：1

起止页码：145-148

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20091311982962)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：对电沉积磷含量12.3wt%非晶态Ni-P镀层晶化过程进行了分析。利用X射线衍射仪(XRD)、差示扫描分析(DSC)、透射电镜(TEM)和高分辩透射电镜(HRTEM)研究了非晶态Ni-P合金镀层热处理前后的相转变和结构变化。结果表明,晶化过程分步进行,经历非晶→亚稳相→稳定相的转变。XRD和分析结果表明,270℃镀层开始晶化,亚稳相Ni12P5和Ni5P2析出,420℃时完全消失,转变为Ni3P和Ni稳定相。

关 键 词：电沉积 非晶 晶化过程

分 类 号：TQ153.2]