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VO_2热致变色薄膜的结构和光电特性研究 ( EI收录)
STUDY OF STRUCTURAL, ELECTRICAL AND OPTICAL PROPERTIES OF VO 2 THERMOCHROMIC THIN FILMS
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国空间技术研究院兰州物理研究所
年 份：1998
卷 号：47
期 号：3
起止页码：454-460
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：1998054218713)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要：用磁控溅射方法制备了ＶＯ２热致变色薄膜．用Ｘ射线衍射、Ｘ射线光电子谱和原子力显微镜对薄膜的宏观及微观结构进行了分析，表明ＶＯ２薄膜纯度高、相结构单一、结晶度好．薄膜的光透过率在２０００ｎｍ处相变前后改变了４２％，高／低温电阻率变化达到三个数量级以上．薄膜的光透过谱和相变过程中电学性质变化的研究与结构分析结果相一致．
关 键 词：光电特性 磁控溅射 二氧化钒 热致变色 薄膜
分 类 号：O484.4]
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