文献类型：期刊文章

作　　者：赵春英[1] 张志仁[2]

机构地区：[1]沈阳理工大学环境与化学工程学院,辽宁沈阳110168 [2]沈阳新北热电有限责任公司,辽宁沈阳110013

出　　处：《电镀与精饰》

年　　份：2009

卷　　号：31

期　　号：2

起止页码：26-28

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：研究对比了三种钕铁硼镀镍层退除工艺的退除速度及基体腐蚀情况。筛选出硫酸铜-硫酸电解液电解退除镀镍层为较优方法,确定了最佳组成为硫酸650 mL/L、硫酸铜25 g/L、电解电压6 V。探讨了退镀原理及影响退镀的各种因素。结果表明:电压是影响退镀的主要因素,其次是硫酸和硫酸铜的含量。该配方退镀速度较快、成本低、对基体腐蚀小、使用寿命长,适合NdFeB永磁体镍镀层的退除,也适合铁基精密零件镍镀层的退除。

关 键 词：钕铁硼永磁体 镀镍层 退镀 硫酸-硫酸铜体系  

分 类 号：TQ151.12]