文献类型：期刊文章

作　　者：谢鹏[1] 汪建华[1,2] 王传新[1,2] 王升高[1,2] 满卫东[1,2] 熊礼威[1,2]

机构地区：[1]武汉工程大学材料学院,湖北武汉430074 [2]湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北武汉430074

出　　处：《武汉工程大学学报》

基　　金：国家自然科学基金(50572075);湖北省教育厅2004年创新团队项目;湖北省教育厅Q20081505项目

年　　份：2009

卷　　号：31

期　　号：3

起止页码：60-63

语　　种：中文

收录情况：CAS、JST、普通刊

摘　　要：采用射频等离子体技术,以CH4和H2为反应气体,在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明,制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.492 nm;薄膜中含有sp2,sp3杂化键,具有典型的类金刚石结构特征;光学透过率比较高,薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.

关 键 词：射频等离子体 类金刚石薄膜 粗糙度 拉曼光谱 显微硬度

分 类 号：TB43]