文献类型：期刊文章

作　　者：赵晶丽[1] 王惠卿[2] 冯晓国[1] 梁凤超[1]

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033 [2]长春理工大学研究生院,吉林长春130022

出　　处：《应用光学》

基　　金：国防预研基金资助项目(10.4.2.ZK1001)

年　　份：2009

卷　　号：30

期　　号：1

起止页码：101-104

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：通过对离心法在凹球面上涂布光刻胶过程进行分析,阐明了离心状态下光刻胶在凹球面基底上的流动机理,结合试验提出影响凹球面涂布光刻胶膜厚均匀性的主要因素有胶液粘度、旋涂速度、旋涂时间,列举了以上因素引起的各种现象,并进行了理论分析。引用凹球面旋涂光刻胶的膜厚公式,建立了膜厚与速度关系数学模型;利用流体力学原理解释了有限圆形空间中流体速度对膜层均匀性的影响,从而解决了大曲率凹球面上制备微细图形结构的关键工艺问题,对非球面上制备微细图形具有借鉴作用。

关 键 词：光刻胶 涂胶 凹球面  旋涂

分 类 号：TN305.7]