文献类型：期刊文章

作　　者：蒙延双[1,2] 王达健[3] 武浚[1,2] 刘会基[1,2] 巨少华[1,2]

机构地区：[1]国家镍钴新材料工程技术研究中心,甘肃兰州730101 [2]金川镍钴研究设计院,甘肃兰州730101 [3]天津理工大学材料物理研究所,300191

出　　处：《光谱学与光谱分析》

基　　金：国家自然科学基金项目(50364002);天津市自然科学基金项目(06YFJMJC02300)资助

年　　份：2009

卷　　号：29

期　　号：1

起止页码：180-183

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20090711909843)、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCI(收录号：WOS:000262521200042)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000262521200042)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：拟薄水铝石作为前驱体,加入胶溶剂HNO3调节pH 2.0得到胶粒大小-60 nm的稳定胶体。将Eu（NO3）3溶液加入拟薄水铝石胶体,Eu^3＋在静电引力作用下在拟薄水铝石胶粒表面发生化学吸附。荧光光谱检测结果表明,Eu^3＋592 nm发射峰强度I592随AlOOH∶Eu（NO3）3物质的量之比RBoe/Re的增大而降低。由发射峰强度I592计算出Eu^3＋在拟薄水铝石胶粒表面吸附率R随RBoe/Re增大而增大,当RBoe/Re=4时,吸附率可达53.0%。Eu^3＋在拟薄水铝石胶粒表面的吸附密度D也随RBoe/Re的增大呈上升趋势,且吸附曲线随RBoe/Re分为初始阶段、平缓阶段和饱和阶段。

关 键 词：拟薄水铝胶体  Eu离子  吸附  荧光光谱

分 类 号：O657.3]