文献类型：期刊文章

作　　者：张晓勇[1] 晁明举[1] 梁二军[1] 胡帆[1] 袁斌[1]

机构地区：[1]郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州450052

出　　处：《无机材料学报》

基　　金：河南省教育厅自然科学研究计划(2006140009)

年　　份：2009

卷　　号：24

期　　号：1

起止页码：34-38

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、DOAJ、EI(收录号：20090811917365)、IC、JST、RCCSE、SCI(收录号：WOS:000262534800007)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000262534800007)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用磁控溅射法制备了不同V含量的纳米TiO2薄膜,利用SEM、XRD、Ram an光谱和UV-vis吸收光谱对V掺杂TiO2薄膜的表面形貌、结晶特性、晶格应力和光吸收性能进行了分析.结果表明,V掺杂可促进TiO2薄膜晶粒的定向生长,得到尺寸分布较均匀的哑铃状晶粒,且可抑制薄膜的晶格膨胀和金红石型晶粒的生成.V掺杂TiO2薄膜处于压应力状态,且应力随V含量增加而增大.V掺杂使导带底向带隙延伸,TiO2薄膜光学带隙变窄,光响应范围从紫外区红移到可见光区域,提高了薄膜对可见光的吸收率.

关 键 词：二氧化钛薄膜 钒掺杂  微观结构 光吸收性能

分 类 号：O643]