期刊文章详细信息
磁控溅射对薄膜附着力的影响
The Influence Factor of Thin Films Adhesion Prepared by Magnetron Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]山东天诺光电材料有限公司,济南250101 [2]山东现代职业学院,济南250108
基 金：国防基础科研(B0920061337)
年 份：2008
卷 号：41
期 号：6
起止页码：41-43
语 种：中文
收录情况：CAS、CSA、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用。综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素。影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等。
关 键 词：磁控溅射 附着力 综述
分 类 号：TB333[材料类] TQ153.1]
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