期刊文章详细信息
光刻工艺中的曝光技术比较
The discuss of exposure technology in lithography process
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]南京工程学院机械工程学院,南京211167 [2]苏州三星电子有限公司压缩机品质部,苏州215021
年 份：2008
期 号：12
起止页码：131-135
语 种：中文
收录情况：CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：介绍目前比较前沿的光学曝光、电子束曝光、离子束曝光、X射线曝光和极紫外曝光等曝光方法。并对这些光刻曝光技术进行相应的比较。
关 键 词：光刻 曝光技术 区别
分 类 号：TN383]
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