登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

硫脲在电镀和化学镀中的应用    

Application of Thiourea in Electroplating and Electroless Plating

  

文献类型:期刊文章

作  者:高宁宁[1] 程瑾宁[1] 李宁[1]

机构地区:[1]哈尔滨工业大学(威海)应用化学系,山东威海264209

出  处:《材料保护》

年  份:2008

卷  号:41

期  号:12

起止页码:50-53

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:由于硫脲的分子结构特点,且与贵金属有着特殊亲合力,其在电镀工业中有着广泛的应用。总结了硫脲在电镀和化学镀工艺中的应用。硫脲作为配位剂可用于化学镀,退除不良镀层和电镀贵金属;同时作为稳定剂可用于化学镀镍、铜、镍磷合金和浸锡;而且还可作为特殊添加剂应用于电镀锌、铜、镍、镉、锌锰和铜金合金等;此外还论述了硫脲使用的局限性及目前存在的问题的解决方法。

关 键 词:硫脲 电镀 配位剂 稳定剂 应用  

分 类 号:TQ153]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心