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期刊文章详细信息

PLD法生长Al2O3基ZnO薄膜的特性    

Characteristics of zinc oxide thin films on Al_2O_3 substrates grown by pulsed laser deposition method

  

文献类型:期刊文章

作  者:何建廷[1] 曹文田[2] 李田泽[1] 庄惠照[2]

机构地区:[1]山东理工大学电气与电子工程学院现代光电技术研究所,山东淄博255049 [2]山东师范大学物理与电子科学学院,山东济南250014

出  处:《电子元件与材料》

基  金:国家自然科学基金资助项目(No.90301002)

年  份:2008

卷  号:27

期  号:12

起止页码:60-62

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:在不同衬底温度下,用脉冲激光沉积法(PLD),在Al2O3(0001)平面上生长了ZnO薄膜。研究了衬底温度对其结晶质量、电学性质以及发光性质的影响。结果显示:XRD在2θ为34°处出现了唯一的ZnO(0002)衍射峰;ZnO薄膜的电阻率随衬底温度的升高而增大;在衬底温度为500℃时,出现了位于410nm附近的特殊的光致发光(PL)峰。

关 键 词:无机非金属材料 PLD ZNO 薄膜  AL2O3 半导体材料  

分 类 号:TQ132.4] TN304]

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同被引文献:

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