期刊文章详细信息
PLD法生长Al2O3基ZnO薄膜的特性
Characteristics of zinc oxide thin films on Al_2O_3 substrates grown by pulsed laser deposition method
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]山东理工大学电气与电子工程学院现代光电技术研究所,山东淄博255049 [2]山东师范大学物理与电子科学学院,山东济南250014
基 金:国家自然科学基金资助项目(No.90301002)
年 份:2008
卷 号:27
期 号:12
起止页码:60-62
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要:在不同衬底温度下,用脉冲激光沉积法(PLD),在Al2O3(0001)平面上生长了ZnO薄膜。研究了衬底温度对其结晶质量、电学性质以及发光性质的影响。结果显示:XRD在2θ为34°处出现了唯一的ZnO(0002)衍射峰;ZnO薄膜的电阻率随衬底温度的升高而增大;在衬底温度为500℃时,出现了位于410nm附近的特殊的光致发光(PL)峰。
关 键 词:无机非金属材料 PLD ZNO 薄膜 AL2O3 半导体材料
分 类 号:TQ132.4] TN304]
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