期刊文章详细信息
四氯化硅在西门子法多晶硅生产流程内部的循环利用
Circular Utilization of Silicon Tetrachloride in Production of Polycrystalline Silicon by Siemens Process
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]峨嵋半导体材料厂(所),四川峨嵋山614200
年 份：2008
卷 号：22
期 号：4
起止页码：70-72
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：笔者之一曾在1982年发表《SiCl4氢化反应的探索》的热力学分析的文章,结合近期国内多晶硅产业蓬勃发展的新形势和对西门子法工艺主要副产物SiCl4有效利用的迫切需要,本文试图探索四氯化硅在西门子法多晶硅生产流程中循环利用的可能途径。
关 键 词：四氯化硅 循环利用
分 类 号：TM914.4]
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