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期刊文章详细信息

金属有机化学气相沉积制备铁电薄膜材料研究进展    

Latest progress on preparation of ferroelectric thin films prepared by MOCVD process

  

文献类型:期刊文章

作  者:符春林[1,2] 潘复生[1] 蔡苇[2] 邓小玲[2]

机构地区:[1]重庆大学材料科学与工程学院,重庆400044 [2]重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆401331

出  处:《真空》

基  金:中国博士后科学基金(编号20070410774);重庆市自然科学基金(编号CSTC2007BB4212);重庆市教育委员会科学技术研究项目(编号KJ071401)

年  份:2008

卷  号:45

期  号:6

起止页码:25-28

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:铁电薄膜是一类重要的功能材料,是近年来高新技术研究的前沿和热点之一。金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备铁电薄膜的一种重要方法。综述了金属有机化学气相沉积法制备铁电薄膜的历史、原理、工艺参数、特点和采用此方法制备出的某些材料的铁电性能。

关 键 词:金属有机化学气相沉积 铁电 薄膜  制备  

分 类 号:O484] TB32[物理学类]

参考文献:

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同被引文献:

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