期刊文章详细信息
磁控溅射碳纳米管SnO_2材料的工艺对性能的影响
STUDY ON THE INFLUENCE OF CHANGING MAGNETRON SPUTTERING TECHNOLOGY ON CARBON NANOTUBE-SnO_2 COMPOSITE MATERIAL
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]福州大学材料科学与工程学院,福州350002 [2]福州大学物理与信息工程学院,福州350002 [3]福建省微电子集成电路重点实验室,福州35000
年 份：2008
卷 号：29
期 号：3
起止页码：236-238
语 种：中文
收录情况：CAS、JST、ZGKJHX、普通刊
摘 要：采用磁控溅射方法制备碳纳米管SnO2薄膜,通过分析不同工艺条件下制备的气敏元件在NO2气氛中的灵敏度响应特性,以及比较不同的薄膜厚度的气敏元件的性能特性,来研究磁控溅射工艺条件的改变对碳纳米管SnO2气敏元件的性能的影响。实验表明:磁控溅射的工艺条件对气敏元件的性能有很大的影响,射频反应溅射碳纳米管SnO2气敏元件有较好的性能,最佳的气敏元件薄膜厚度在30nm左右。
关 键 词：磁控溅射 碳纳米管 SNO2 气敏
分 类 号：TB383[材料类]
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