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期刊文章详细信息

Pt/WO_3纳米薄膜的氢敏特性    

Gas Sensitivity to H_2 of P_t-WO_3 Thin Film

  

文献类型:期刊文章

作  者:范小花[1] 唐一科[2] 侯长军[3] 范瑛[4]

机构地区:[1]重庆科技学院安全工程学院,重庆401331 [2]重庆大学机械传动国家重点实验室,重庆400030 [3]重庆大学化学化工学院/光电技术及系统教育部重点实验室,重庆400030 [4]中国工程物理研究院结构力学研究所,四川绵阳621000

出  处:《材料科学与工程学报》

基  金:国家自然科学基金资助项目(10376045);重庆市自然科学基金资助项目(8418)

年  份:2008

卷  号:26

期  号:5

起止页码:761-764

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:用溶胶-凝胶法和磁控溅射法相结合制备了催化剂Pt掺杂的WO3纳米薄膜,通过改变氢气的体积分数、催化剂Pt的含量及热处理温度等实验因素,对Pt/WO3薄膜的氢致变色性能进行了测试;并利用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜的氢敏机理。实验结果表明:先用溶胶-凝胶法制得WO3薄膜,然后再用磁控溅射法在该WO3薄膜上溅射掺杂5%的Pt,制得Pt/WO3双层纳米薄膜,经100℃热处理后,可以获得性能稳定且具有良好氢敏特性的优质薄膜;薄膜能检测的氢气浓度低至0.008%;XPS分析表明,W5+与W6+之间的转换是引起WO3薄膜氢致变色现象的主要原因。

关 键 词:Pt/WO3纳米薄膜  氢敏特性  机理  

分 类 号:O484.1] TN304.055[物理学类]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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