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期刊文章详细信息

多晶硅太阳电池PECVD氮化硅钝化工艺的研究    

The Si_xN_yH_z Passivation Study of Polycrystalline Silicon Solar Cells by PECVD

  

文献类型:期刊文章

作  者:李军阳[1] 陈特超[1] 禹庆荣[1]

机构地区:[1]中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙410111

出  处:《电子工业专用设备》

年  份:2008

卷  号:37

期  号:10

起止页码:46-48

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:介绍等离子体化学气相淀积(PECVD)制备减反射钝化膜。将PECVD设备运用于太阳电池生产线上,发现通过PECVD设备可以对多晶硅太阳电池有很好的钝化效果。分析PECVD对多晶硅太阳电池钝化机理。

关 键 词:PECVD 钝化 氮化硅 等离子体增强化学气相淀积  太阳电池 多晶硅

分 类 号:TK573] TN806.9]

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同被引文献:

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