文献类型：期刊文章

作　　者：卜贵军[1] 刘洪梅[1] 李英[1] 崔琳[1] 王学东[1]

机构地区：[1]东北农业大学生命中心,黑龙江哈尔滨150030

出　　处：《电子显微学报》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.30471093)~~

年　　份：2008

卷　　号：27

期　　号：4

起止页码：322-330

语　　种：中文

收录情况：CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：利用透射电镜和扫描电镜,研究转基因抗草甘膦大豆和非抗草甘膦大豆东农42喷施草甘膦后大豆光合器官叶片的超微结构变化,并结合叶绿素含量、光合速率的测定,对比分析了抗草甘膦大豆和东农42在结构及生理功能上对草甘膦的表现及结构与功能变化的关系。研究结果表明抗草甘膦大豆对草甘膦的胁迫可以看作是一种适应。它首先经过一个损伤期,然后进入修复期,最终到基本恢复,表现出对草甘膦的抗性。而东农42的光合系统及光合功能则被草甘膦所彻底破坏。本文对其原因进行探究,以期为转基因作物育种尤其是超微结构方面的研究及草甘膦作用机理的研究有一定帮助。

关 键 词：抗草甘膦大豆 超微结构 光合作用 嗜锇颗粒  

分 类 号：S565.1] Q336]