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同步辐射X射线光刻实验研究
STUDY ON SYNCHROTRON RADIATION X-RAY EXPOSURE EXPERIMENT
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国科学院微电子中心BSRF联合光刻站,北京100010
基 金：军用微电子重点预研资助
年 份：1997
期 号：3
起止页码：10-13
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：同步辐射X射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置3BlA光刻束线上的曝光结果，并对X射线掩模的制作工艺作了简要介绍。
关 键 词：X射线光刻 X射线掩模 同步辐射 光刻 掩模
分 类 号：TN305.7]
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