期刊文章详细信息
聚合物光波导的反应离子刻蚀工艺研究 ( EI收录)
RIE Technological Study of Polymer Optical Waveguide
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]东南大学电子科学与工程学院先进光子学中心,南京210096
基 金：教育部科学技术研究重点项目资助(104196)
年 份：2008
期 号：3
起止页码：5-9
语 种：中文
收录情况：EI(收录号：20083911603658)、SCOPUS、普通刊
摘 要：实验研究了表面粗糙度、侧壁垂直度与各刻蚀参量之间的关系,通过对刻蚀效果的分析,发现在低功率、高CHF3含量、低压强的情况下能获得最小的表面粗糙度;在高功率、50%CHF3含量、低压强的情况下能获得较陡直的波导侧壁。利用优化的刻蚀条件,对PMMA进行刻蚀,得到了均方根粗糙度小、侧壁陡直的波导。实验发现,该刻蚀条件对其他聚合物光波导材料的刻蚀也具有一定的指导意义。
关 键 词：反应离子刻蚀 波导 PMMA 粗糙度 侧壁垂直度
分 类 号：TN252]
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