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期刊文章详细信息

酸性镀铜有机添加剂的研究    

Additive for Acidic Copper Plating

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘俊峰[1] 彭良富[1] 刘源[2] 李学忠[1]

机构地区:[1]湖南科技大学化工研究所,湖南湘潭411201 [2]长沙科佳精细化学品研究所,湖南长沙410005

出  处:《材料保护》

年  份:2008

卷  号:41

期  号:7

起止页码:40-41

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:研究了有机添加剂在酸性电镀铜工艺中的作用和效果,并与使用较多的2种国内和国外染料体系酸铜添加剂的阴极极化曲线、镀液的深镀能力、镀层表面形貌作了对比。结果表明,本研究所用的无染料酸铜有机添加剂深镀能力、铜镀层光亮面积与国外添加剂基本相当。其阴极极化曲线也与国外酸铜添加剂的阴极极化曲线形状相似,峰值电位和峰值电流密度相近,极化值近乎相等。

关 键 词:酸性镀铜 有机添加剂 极化曲线

分 类 号:TQ153.14]

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同被引文献:

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