文献类型：期刊文章

作　　者：季一勤[1] 崔玉平[2] 刘华松[1] 宗杰[1] 宋洪君[1] 洪伟[1] 姜福灏[2] 孙赤权[3]

机构地区：[1]天津津航技术物理研究所,天津300192 [2]北京自动化控制设备研究所,北京100074 [3]海装天津局驻天津兵器设备军代表室,天津300192

出　　处：《红外与激光工程》

年　　份：2008

卷　　号：37

期　　号：3

起止页码：505-508

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：随着激光基准系统和高精度激光测量系统的发展和应用,推动了超低损耗薄膜技术的发展,进一步控制损耗各分量的大小和分布,需要对光学薄膜总损耗进行测试分析。采用DIBS镀膜工艺在超光滑基底上镀制了高反膜和减反膜,给出了镀膜的工艺方法及工艺参数。通过分析时间衰减法测试总损耗的原理,分别采用时间衰减法和频率扫描法测试了光学薄膜的总损耗,在632.8nm波长点的测试结果为:高反膜层吸收为19.6×10-6,反射率达到99.99686%;减反膜层总损耗为78×10-6。最后对光学薄膜总损耗的构成和工艺改进进行了探讨。

关 键 词：总损耗  测试  分析  高反膜 减反膜

分 类 号：O432]