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等离子体气动激励改善气膜冷却效率的数值研究
Numerical Investigation on Improvement of Film Cooling Efficiency with the plasma actuation
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]空军工程大学工程学院,陕西西安710038 [2]空军飞行试验训练基地,河北沧州061000 [3]沈阳军区空军装备部,辽宁沈阳110015
年 份:2008
卷 号:9
期 号:3
起止页码:1-5
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要:为了获得等离子体气动激励改善气膜冷却效率的机理及影响规律,采用数值模拟方法研究了等离子体气动激励电极相对位置x/L分别为0.3、0.4和0.5时不同吹风比下的流动过程和冷却效率的分布情况,并通过与常规气膜孔冷却结构形式进行的对比,以揭示等离子体气动激励改善气膜冷却效率的作用机理。研究表明:等离子体气动激励产生的等离子体流能诱导冷却气流偏转,使冷却气流更好地贴覆壁面,改善了气膜冷却效率;等离子体气动激励电极位置离气膜孔出口距离越近,等离子体流诱导改善气膜冷却效率的作用越好,并且随着吹风比的减小,其作用效果越明显。
关 键 词:等离子体激励 气膜冷却 数值计算
分 类 号:V23]
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